Cmos优势物料推选三:CMSA120P03A

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Cmos优势物料推选三:CMSA120P03A

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摩尔定律是半导体行业发展的最大壁障,它从物理角度预测和定义了芯片发展的趋势和边界。场效应管作为电子电路基础芯片之一,其发展历程最为典型,足以说明半导体芯片的来龙和去脉。


场效应管于二十世纪六十年代被发明研制,历经六十多年发展,已然作为电力电子核心半导体器件得到广泛应用。其封装形式先后经历TO插件式、SOT贴片式、PDFN和TOLL大功率贴片。封装形式的演变是人类对产品需求的发展,从需求层面出发,要求携带方便,精巧而不笨重,所以小而精高集成性的封装是发展趋势;从节能角度,低电压大电流是未来需求的趋势,PDFN封装满足这两点需求。下图是某半导体研究机构统计的2010~2020近十年场效应管封装需求的变化趋势,很清楚的反映出,半导体市场对PDFN封装需求一直呈现上涨趋势,这也主要是这种封装自身的优异特性,显然,PDFN封装将会得到广泛应用。

CMSA120P03A是Cmos研制的一款沟槽型工艺P沟道场效应管,具有卓越的电性参数。


封装形式

CMSA120P03AMOSFET属于PDFN封装,为了拓展客户实际应用电路物料的兼容性,PDFN封装可以和SOP-8封装互相替代。具体内部拓扑结构如下图所示。

卓越的电性特性

耐压和耐流能力

CMSA120P03A场效应管是一款低电压大电流P沟道场效应管,击穿电压为VDS=-30V,在Tc=25℃,MOS管将完全导通状态下,DS的持续工作电流ID=-150A,具有高功率输送能力,这种特性用在电机桥型驱动方案,高性能锂电池保护板以及LED灯控产品方面效果卓越,性能稳定。


低开启低内阻

CMSA120P03A是一款P沟道MOS管,从微观层面考虑,沟道电阻是受载流子(载流子分为电子和空穴)迁移率的影响。而空穴迁移率的大小仅为电子迁移率的1/3,在相同尺寸条件下,P沟道是N沟道内阻的3倍。然而,这种半导体固有的物理特性,并没阻止Cmos研发团队对优秀产品的追求。CMSA120P03A这款管子,在饱和状态时,导通内阻RDSON仅仅只有3.6mΩ,在电路应用中其导通损耗将变得非常小,应用在锂电保护板上效果极佳,稳定性极佳。再加上栅极开启电压Vgs=-2V,这使得其驱动电路异常简单,使得整个电路集成性更高。


CMSA120P03A是一款综合性能优越的场效应管,低导通损耗和低开启条件使其具有宽泛的应用环境,高功率输出能力能够轻松达到高效率的传递能力。在高性能锂电池保护板,LED灯控制器,无刷电机等领域已被广泛应用。当然它的应用电路不仅限于此,还有更多的应用场景等待开发。


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